HMDS预处理系统
通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。
HMDS预处理系统
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅胺)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
1. 工作室尺寸 300×300×300,450×450×450,550×650×550(mm)可自定
2.材质外箱采用304不锈钢/冷轧板喷塑,内箱采用316L医用级不锈钢
3.温度范围 RT+10-250℃
4. 温度分辨率 0.1℃
5. 温度波动度 ≤±0.5℃
6. 真空度 ≤133pa(1torr)
7. 洁净度 class 100,适用100级光刻间净化环境
8.真空泵 旋片式油泵/干泵
9.控制仪表 人机界面
10.搁板层数 2层
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